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变电保护（c）带正电离的供体和晶体台阶边缘电子气氛的空间电荷分布示意图。几十年前，地化等两化学掺杂（例如导电聚合物）使π共轭分子的晶体和薄膜具有高导电性甚至金属性的发现，地化等两激发了全世界对这些材料的兴趣，并标志着有机电子领域的巨大进步。

通用条件（d）晶体厚度分别为3µm和40µm的Cl2-NDI单晶阶梯密度的AFM图像。【图文导读】图一、技术N-硅烷蒸气对Cl2-NDI和PDIF-CN2单晶的化学掺杂（a）化学掺杂装置的示意图，技术以及金涂层PDMS上四探针真空介电层FET的光学显微照片和示意图。如今，项企有机半导体p型和n型掺杂在工业上被用于降低有机发光二极管显示器的工作电压。

业标（b）单晶FET掺杂前和掺杂后的对应ID-VG曲线。欢迎大家到材料人宣传科技成果并对文献进行深入解读，过评投稿邮箱[email protected]。

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何涛教授博士毕业于山东大学晶体材料国家重点实验室（师从蒋民华院士和陶绪堂教授），变电保护然后在德国维尔兹堡大学(FrankWürthner课题组)（博士后研究员），变电保护美国明尼苏达大学(CDanielFrisbie课题组)（博士后研究员）从事科研工作。地化等两排名基于声望研究所2019年前两个月对23万名受访者进行的问卷调查。

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